2019年3月21日至5月31日，上海chi K11美术馆将呈现国际知名艺术家张恩利（1965年生于中国吉林）和奥斯卡·穆里略（1986年生于哥伦比亚）的大型双个展。“临时的工作室”将是张恩利9年来在中国大陆的第一次机构个展，而“集体良知”更是穆里略在中国大陆的首度机构展。通过集中呈现两位艺术家近年来的多件作品，这场双个展希望建立一场对话，探索两位艺术家各自多面向的实践在观念层面的关联。

张恩利是当代中国最知名的艺术家之一，以聚焦生活中的静物细节的绘画闻名。近年来，张恩利转向从各种建筑表面、空间和环境中汲取灵感，延展观看绘画的更多可能性。本场展览所呈现的张恩利近年来的三组作品，进一步突出他创作中的这一新倾向。

奥斯卡·穆里略于2007年在伦敦威斯敏斯特大学取得艺术学士学位，并于2012年在伦敦皇家艺术学院获得艺术硕士学位。他擅长创作大尺幅的绘画作品，也会涉及影像、装置和表演艺术。他的作品常常和文化社群紧密联系在一起，他们是艺术家在不同城市和他祖国哥伦比亚之间旅行和工作的跨文化纽带。穆里略常奔波于世界各地。距离、位移和运动，这些都是穆里略在创作中常常探索的概念;无论画布上还是画布以外，在工作室内还是在更广阔的外部世界，他都思考着旅途中身体的表现形式，并对空间地理进行敏锐探寻。

此次双个展是艺术家张恩利与奥斯卡·穆里略在上海 chi K11 美术馆的一次相遇，如同一场中西艺术碰撞的文化体验。在展览期间上海 chi K11 美术馆将陆续举办3场展览主题讲座及一系列文化艺术活动（如“K11 x 亚朵 | 3km艺术社区漫游志”、“大声公社--K11团队导览”、“chi K11美术馆世界博物馆日系列活动”和“游动的美术馆--艺术私塾项目”等）。希望公众可以通过多方面的自由体验与线下活动，更好地领略艺术的独特魅力。